9. septembril kohaliku aja järgi teatas Inteli tegevjuht Kissinger, et investeerib 20 miljardit dollarit uue suuremahulise vahvlitehase ehitamiseks USA-s Ohios.See on osa Inteli IDM 2.0 strateegiast.Kogu investeerimiskava ulatub 100 miljardi dollarini.Uut tehast hakatakse masstootma 2025. aastal. Sel ajal viib “1,8nm” protsess Inteli pooljuhtide liidripositsioonile.
Alates Inteli tegevjuhiks saamisest eelmise aasta veebruaris on Kissinger jõuliselt edendanud tehaste ehitamist USA-s ja mujal maailmas, millest vähemalt 40 miljardit USA dollarit on investeeritud USA-sse.Eelmisel aastal investeeris ta Arizonasse vahvlitehase ehitamiseks 20 miljardit USA dollarit.Seekord investeeris ta Ohiosse ka 20 miljardit USA dollarit ning ehitas New Mexicosse ka uue tihendus- ja katsetehase.
Intel investeerib veel 20 miljardit dollarit kahe kiibitehase ehitamiseks.1,8 nm tehnoloogia kuningas naaseb
Inteli tehas on ka suur pooljuhtkiipide tehas, mis ehitati äsja USA-sse pärast 52,8 miljardi USA dollari suuruse kiibitoetuse arve vastuvõtmist.Sel põhjusel osalesid avatseremoonial ka Ameerika Ühendriikide president, Ohio kuberner ja teised kohalike osakondade kõrgemad ametnikud.
Intel investeerib veel 20 miljardit dollarit kahe kiibitehase ehitamiseks.1,8 nm tehnoloogia kuningas naaseb
Inteli kiipide tootmisbaas koosneb kahest vahvlitehasest, mis mahutavad kuni kaheksa tehast ja toetavad ökoloogilisi tugisüsteeme.Selle pindala on ligi 1000 aakrit, see tähendab 4 ruutkilomeetrit.See loob 3000 kõrgepalgalist töökohta, 7000 ehitustöökohta ja kümneid tuhandeid tarneahela koostöö töökohti.
Need kaks vahvlitehast hakkavad massiliselt tootma 2025. aastal. Intel ei maininud konkreetselt tehase protsessitaset, kuid Intel ütles varem, et omandab 5 põlvkonna protsessori protsessi 4 aasta jooksul ja hakkab 20a masstootma. ja 18a kahe põlvkonna protsessid aastal 2024. Seega peaks siinne tehas selleks ajaks tootma ka 18a protsessi.
20a ja 18a on maailma esimesed kiibiprotsessid, mis saavutavad EMI taseme, mis on samaväärne sõprade 2nm ja 1,8nm protsessidega.Samuti toovad nad turule kaks Inteli musta tehnoloogia tehnoloogiat, lint-FET ja powervia.
Inteli sõnul on ribbonfet Inteli värav kõigi transistoride ümber.Sellest saab esimene uhiuus transistori arhitektuur pärast seda, kui ettevõte 2011. aastal FinFET-i esmakordselt turule tõi. See tehnoloogia kiirendab transistori lülituskiirust ja saavutab sama ajamivoolu kui mitme ribi struktuur, kuid võtab vähem ruumi.
Powervia on Inteli ainulaadne ja tööstusharu esimene tagasivoolu edastusvõrk, mis optimeerib signaaliedastust, kõrvaldades vajaduse toiteallika ja
Postitusaeg: 12. september 2022